【フォトレジスト】東京応化工業

[0001 名無しさん＠お腹いっぱい。 2024/02/04(日) 10:47:27.17 ID:M2sLkk4U]

どないや！

[0002 名無しさん＠お腹いっぱい。 2024/02/04(日) 11:51:34.16 ID:M2sLkk4U]

フォトレジスト（photoresist）とは、光や電子線などによって溶解性などの物性が変化する組成物です。フォトリソグラフィにおいて使用され、物質の表面に塗布されてエッチングなどの処理から物質表面を保護することから、「レジスト」 (resist) の名があります。
フォトレジストは、ポリマー・感光剤・溶剤を主成分とする液状の化学薬剤で、光によって性質が変化します。特定の波長の光を吸収すると化学構造が変化して洗浄液、現像液に対する溶解性も変わります。
フォトレジストは、半導体製造において基板に回路を転写するフォトリソグラフィー工程で使用されます。半導体などの回路パターンを、シリコンウエハー上に描画する工程で用いる感光性の樹脂です。
半導体デバイスの小型化や高性能化を実現するためには、フォトレジストの塗布や露光など各ステップにおいて高い精度が求められます。