>>148
今回は半導体製造におけるフォトリソグラフィ工程の理解がいかに重要かについて説明する フォトリソグラフィはシリコンウェハ上に回路パターンを形成するためのプロセスであり感光性レジストを塗布しマスクを通して紫外線を照射することで露光しその後に現像してパターンを転写する工程や このプロセスの精度が回路の線幅すなわちノードサイズを決定づけるためミスがあれば全ての素子性能が台無しになる 特にナノレベルの微細化が進む中で193nmのArF液浸リソグラフィやさらには
EUV露光技術の導入が重要視されているがEUVは波長が13.5nmと極めて短くマスク欠陥や光源安定性 材料の反応性など多くの技術的課題がある またレジストの膜厚 均一性 アンダーカットの発生 残膜量なども厳密に制御されていなければ次工程のエッチングやドーピングに影響が出て歩留まりが極端に低下する よって単に機械を揃えるだけでは不十分でプロセス条件 光学系 設備キャリブレーション 制度も現実も理解してない証拠やな どんなに個人票が多かろうが比例は政党単位で割り振られるルールやねんから30万だろうが100万だろうが党が弱けりゃ通らんのは当然や 感情で駄々こねて宝だの言っても
政治は人気投票やなくて制度に基づいたゲームで動いてる ほんでまた出たよ 自称愛国系でやたら神格化されてるけど結果も責任も取らない代表格の小林よしのり あれも結局自分が中心になれない世界で吠え続けてるだけで支持も実績もないままネットの中で神輿にされてるだけやからな 無責任な称賛で持ち上げたところで政治的には何の意味もないしむしろ現実から目を逸らすだけやで 環境要因のすべてを理解しながら逐次最適化できる技術者が求められている 半導体製造とは極限まで可視化されない変数を制御する知の集合体であり経験に頼るのではなく理論と実測の整合で工程の全体最適を実現することが求められる 作業者ではなく設計思想と現場の両方を読める者こそが真に価値のある人材なんや
探検
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