0001名無しさん＠お腹いっぱい。2009/01/29(木) 09:05:46ID:zhGDuvTf
露光装置スレが無いからＡＳＭＬに負けるんだよ＾＾
NEDOのプロジェクトで試作してるね
試作機だから１時間で数枚程度で量産レベルじゃないと思う
プロジェクトは３年前に終わってるから日本メーカーはそこで開発終了にしたのでは
でも、マスクメーカーが今EUVのマスクを開発しようと躍起になってるんですよ
ASLMに勝つにはニコンテックを半国営化して
EUV以外の次世代のリソグラフィー技術を
模索 実用化するしか道はないと個人的に
考えてしまうな
0548名無しさん＠お腹いっぱい。2018/11/20(火) 09:52:19.61ID:5Ta+R1X/
リソだけ進んでも何作るんだって話
あくまでもネットの妄想の噂だけど、「アリゾナファブは2H2019でNikon NSR-S635Eで7nmを始めています。」とさｗ
ナノインプリント半導体製造装置 2017/07 東芝メモリ 四日市工場に納品だから稼働に2年近く掛かったね、でも実用になるとは凄い！
0553名無しさん＠お腹いっぱい。2019/01/13(日) 19:58:16.62ID:TFjJQz8v
Apple A12はArf 7FFプロセスなので
ありえない話ではないかな
EUV装置は150億と高額かつまだまだ不安定で
肝心のスループットもトロすぎる
>>552
前半はニコンの話で後半はキヤノンの話？良く分からん。 0555名無しさん＠お腹いっぱい。2019/01/16(水) 23:37:53.61ID:kJZLHYu1
不思議なことがおきた◯浜製作所工◯N村が結婚できた
>>556
和解とは言えASMLサイドがニコンに約190億円支払うんだよな。実質ニコンの勝利だろ。 0558無名2019/02/09(土) 11:14:52.71ID:qOZE+Jv/
EUV露光技術の開発に関し、日本は圧倒的に周辺技術を含め遅延しており、超LSI技術の今後の見通しは無い！。
0559無名2019/02/09(土) 14:04:27.88ID:qOZE+Jv/
ナノサイズの超LSIに適さない技術として、
１．NIL技術：投影技術で無いので、ペリクルが使えず、パーティクルに極めて弱く歩留りが得られなくなる。
２．X線露光技術：投影露光が困難で、ペリクルの効果が無く、ステンシル・マスクではナノレベルのパターンの形成が困難であり、
シンクロトロン放射光を用いるとコスパが悪くペイしない。シンクロトロン放射設備は米国にも多数あり、もしシンクロトロンを用いたX線露光が有効で有れば、
既に米国で実用化されているはず！。
３．自己組織化技術はパターンの自由度が無く、超LSIのダイバシティには対応できない。
即ち、EUV露光技術のみが１ｎｍ解像を目指した唯一のeLSIの露光技術である。日本ではEUV露光技術は机上の空論ばかりで、
実用化を図ろうとする兆しさえ見えない。尤も反射型光学系の設計能力のないN社を筆頭に実用化を図ろうとする気概のあるメーカーが見当たらないのいが難点だが、
担当官庁（経産省？）の奮起が待たれるところである。
0560無名2019/02/09(土) 15:11:44.93ID:qOZE+Jv/
トンネル長１ｎｍの極LSI（eLSI)(extreme LSI)の生産にEUV露光を！。
0561無名2019/02/09(土) 15:14:12.95ID:qOZE+Jv/
トンネル長１ｎｍのTFETによる極LSI（eLSI)(extreme LSI)の生産にEUV露光を！。
0562名無しさん＠お腹いっぱい。2019/02/10(日) 01:08:37.88ID:0mWUHfOW
>>557
実質ニコンの勝利でも
190億はASMLにとって利益のごく一部w
ニコンにとって半導体露光装置事業部の赤字を帳消しにする大金ww
ノドンからテポドン(ノドからテ)な命綱資金。
ニコン頑張れや。ASMLから貪欲に学べ 0563名無しさん＠お腹いっぱい。2019/02/15(金) 14:11:53.81ID:CbcrsygU
ニコンは大麻を栽培でもするのか？大麻社員は何人いるんだ！これから続々と大麻社員が出てくるんだろうな！蔓延してるのかね？
0564名無しさん＠お腹いっぱい。2019/02/17(日) 00:19:05.07ID:ltSKYvMH
ニコンは光学技術がいまいちだと思うの
0567名無しさん＠お腹いっぱい。2019/03/17(日) 18:27:03.26ID:/YQkz6Uy
あんなもん業界的にはなかったことになってる
ASMLのEUV光源はギガフォトン製なの？
ASMLが買収したサイマーが開発に成功したという話が見つからないんだけど
0570無名2019/07/22(月) 15:11:39.17ID:LjjiMZXK
ナノ露光技術は、NILやDSAだけではナノサイズのTemplateがなければ成立しない。その為には、
EUV露光技術と電子マルチビーム露光技術が基本的に必須であることを認識すべき！これらの
技術のインフラ整備とシステム構築が日本には欠けており、電子産業の遅延は避けられなく
成っている。
NILのtemplate製造装置もCANONが作っていて、大日本に納品されているよ
あと、EUV用のマスクはHOYAや信越が作ってるんじゃないの
0574名無しさん＠お腹いっぱい。2019/11/02(土) 19:28:29.63ID:BBPeirDD
>>571
マスク製造用の露光機はASMLの光学系やってるZeissじゃないの？ 0575名無しさん＠お腹いっぱい。2019/11/07(木) 13:13:03.48ID:CofnpUnt
0580名無しさん＠お腹いっぱい。2020/09/25(金) 10:50:54.33ID:+aH+K3iY
ニコン、どうも廃業くさいね
0581名無しさん＠お腹いっぱい。2020/10/03(土) 20:39:39.67ID:NPpbOCgB
カメラの修理屋になったらいいよ
0582名無しさん＠お腹いっぱい。2020/10/21(水) 05:12:17.20ID:KyS/xSrR
ニコン ヤバいぞ
株価大暴落
0583名無しさん＠お腹いっぱい。2021/01/31(日) 12:25:54.81ID:ArRfOGMw
正念場
0585名無しさん＠お腹いっぱい。2021/03/02(火) 20:00:52.90ID:lhaEZnqw
初心に戻ってツァイスのコピーからはじめたらいいよ
EUVは光学系使い捨てだから儲かるよ
台湾も韓国もペリクル使ってないみたいな記事があるけど
EUVの筐体内のワークがある場所は真空なの？
ウェハーが入って7.0×10のマイナス7乗とか瞬時に引けるのかね
0587名無しさん＠お腹いっぱい。2021/04/10(土) 17:54:15.73ID:WQqeOeq0
真空だよ
ガス入ってたら減衰しますから
コーターと現像機をインライン化するらしい
やっぱ洗浄後や塗布後の時間差でマスクに昇華するのかな
0590名無しさん＠お腹いっぱい。2022/01/05(水) 16:01:03.85ID:xtfvvjCX
0593名無しさん＠お腹いっぱい。2022/07/01(金) 16:37:55.82ID:/ZwoCP7s
露光装置は重要
0595名無しさん＠お腹いっぱい。2022/07/11(月) 21:49:07.95ID:NhZCVeGY
キャノニコは ASMLの10年遅れで投了だろ
0596名無しさん＠お腹いっぱい。2022/09/13(火) 14:11:37.45ID:ffzi4LV0
素晴らしい女王でした